君はウルトラマイクロニッコールを知っているか(1/31)

企画展の入口に鎮座する投影レンズ（半導体露光装置NSR-S306C用。2001年）。波長193nmのArFエキシマレーザーを扱い、解像度は1mmあたり5,000本。最大露光範囲は26×33mm。内部を窒素で満たし、純水を巡らせて温度を管理する。この500kgのステンレス製鏡筒は、約高さ3m、幅2.2m、奥行き4.5mの装置内で使用されていた。