2021年度 PHOTONEXT技術アカデミー（6月15日・パシフィコ横浜）

日本写真学会と写真感光材料工業会は、セミナー「2021 PHOTONEXT 技術アカデミー」を6月15日にパシフィコ横浜で開催する。参加申し込みはWebフォーム、メール、FAXで受け付けている。

フォトビジネス関係者や企業・学術関係者、写真愛好家などに向けて企画したセミナー。「最新カメラシステムの技術動向」および「市場環境変化機材状況2021」を話題とする。

講演内容は次の通り。

セッションI：最新カメラシステムの技術動向

・EOS R5/R6のデュアルピクセルCMOS AF II開発（キヤノン株式会社 福田浩一氏）
・ミラーレスデジタルカメラ「FUJIFILM GFX100S」の開発（富士フイルム株式会社 田中康一氏）
・焦点距離2000mm相当での手持ち撮影を可能にする超望遠PROレンズの開発 —M.ZUIKO DIGITAL ED 150-400mm F4.5 TC1.25x IS PROの開発—（OMデジタルソリューションズ株式会社 村山恭二氏）

セッションII：市場環境変化と機材状況2021

・写真戦線異常あり（日本カメラ財団 日本カメラ博物館 市川泰憲氏）
・ドローン空撮の現場、その現況と近い将来（写真家 茂手木秀行氏）
・最近の写真館における、メニューと表現の変化。それに伴う機材、ライティングの動向（日本写真文化協会 会長、有限会社日の出写真商会 代表取締役 田中秀幸氏）
・被写体別の機材の選択2021（写真家 相原正明氏）

開催概要

日時：6月15日（火）10時00分〜17時00分（受付開始9時30分）
会場：パシフィコ横浜 展示ホール2F 会議室E204
参加費：全セッション通し：7,000円、セッションI：3,000円、セッションII：4,000円
定員：30人