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日本写真学会、「第21回カメラ技術セミナー」を開催

 日本写真学会は、「第21回カメラ技術セミナー」を11月21日に開催する。若手技術者への情報提供や技術者同士の交流を目的とするセミナー。非学会員でも参加できる。事前申し込みが必要。

 内容は以下の通り。

  • 垂直色分離型CMOSイメージセンサFoveon X3(株式会社シグマ 開発部 開発第1ユニット 乾達也氏)
  • EOS70DのデュアルピクセルCMOS AF(キヤノン株式会社 ICP統括第一開発センター 宮成洋氏」
  • チェキに見る「写真プリントの逆襲」(富士フイルムホールディングス株式会社 経営企画部 青崎耕氏)
  • マイクロフォーサーズ用高倍率ズームレンズ 新14-140mmの開発(パナソニック株式会社 AVCネットワークス社 DSC事業部 光技術グループ 栗岡善昭氏)
  • カメラの露出制御の歴史(日本大学 写真学科/武蔵野美術大学 映像学科 豊田堅二氏)
  • ライトフィールドカメラLytroの動作原理とアルゴリズム(京都産業大学 コンピュータ理工学部 蚊野浩氏)
  • 第21回カメラ技術セミナー
  • 会場:国立オリンピック記念青少年総合センター センター棟4F セミナーホール
  • 住所:東京都渋谷区代々木神園町 3-1
  • 開催日:2013年11月21日木曜日
  • 時間:10時~19時(9時30分受付開始、懇親会含む)
  • 参加費:正会員・賛助会員・協賛学協会員が1万円、非会員が1万1,000円、学生会員が4,000円、学生非会員が5,000円
  • 定員:170名
  • 申込締切:2013年11月15日金曜日

(本誌:武石修)