日本写真学会、2010年度年次大会で講演会
~アマチュア向け講座も多数開催
日本写真学会は、2010年度の年次大会を5月27日から開催する。年次大会に合わせてカメラや写真に関する講演も多数実施する。日本写真学会非会員でも聴講可能。
年次大会では3Dイメージング技術のほか、写真技術に関心を持つ一般ユーザーを対象とした特別セッションを行なう。参加にはWebサイトからの事前登録が必要。定員になり次第締め切る場合がある。
デジタルカメラ関連のプログラムでは、「ライカのデジタルまでの道程」(ライカカメラジャパン)、「RAW現像ソフトの現状」(市川ソフトラボラトリー)、「『深化』するインクジェット写真用紙」(三菱製紙)、「写真コンテストの勘所」(ジョフィー・コミュニケーションズ)、「フォトマスター検定への道、その実施と効用」(日本カメラ博物館)、「銀塩からデジタルへ―写真の変革はこうして起こった―」(コダック)、「ナノ粒子を用いた高性能反射防止膜“ナノクリスタルコート”の開発」(ニコン)などがある。
そのほかの講演についてはWebサイトを参照されたい。
- 名称:2010年度日本写真学会年次大会
- 会場:キャンパス・イノベーションセンター東京(CIC田町)
- 住所:東京都港区芝浦3-3-6
- 会期:2010年5月27日~2010年5月28日
- 参加費:9,000円(会員)、2,000円(学生会員)、6,000円(シルバー会員)、1万3,000円(非会員、1日の場合は9,000円)、3,000円(学生非会員)
2010/5/12 13:20