日本写真学会、2010年度年次大会で講演会

　日本写真学会は、2010年度の年次大会を5月27日から開催する。年次大会に合わせてカメラや写真に関する講演も多数実施する。日本写真学会非会員でも聴講可能。

　年次大会では3Dイメージング技術のほか、写真技術に関心を持つ一般ユーザーを対象とした特別セッションを行なう。参加にはWebサイトからの事前登録が必要。定員になり次第締め切る場合がある。

　デジタルカメラ関連のプログラムでは、「ライカのデジタルまでの道程」（ライカカメラジャパン）、「RAW現像ソフトの現状」（市川ソフトラボラトリー）、「『深化』するインクジェット写真用紙」（三菱製紙）、「写真コンテストの勘所」（ジョフィー・コミュニケーションズ）、「フォトマスター検定への道、その実施と効用」（日本カメラ博物館）、「銀塩からデジタルへ―写真の変革はこうして起こった―」（コダック）、「ナノ粒子を用いた高性能反射防止膜“ナノクリスタルコート”の開発」（ニコン）などがある。

　そのほかの講演についてはWebサイトを参照されたい。

• 名称：2010年度日本写真学会年次大会
• 会場：キャンパス・イノベーションセンター東京（CIC田町）
• 住所：東京都港区芝浦3-3-6
• 会期：2010年5月27日～2010年5月28日
• 参加費：9,000円（会員）、2,000円（学生会員）、6,000円（シルバー会員）、1万3,000円（非会員、1日の場合は9,000円）、3,000円（学生非会員）